複数の物体が反応し、新たな物質が生成される現象を解析することができます。物体の形状が重要な場合はSCRYU/Tetraが、解析の安定性や速度が重視される場合はSTREAMが利用されます。
CVD
ICやCPUの元となるシリコンウェハの製作過程で、基板上にシリコンなどの薄膜を生成させるCVDにも熱流体解析が使われています。SCRYU/Tetraでは、キャリアガスのほか、複数のガスを同時に解く事ができる混合ガス解析機能があります。
複数の物体が反応し、新たな物質が生成される現象を解析することができます。物体の形状が重要な場合はSCRYU/Tetraが、解析の安定性や速度が重視される場合はSTREAMが利用されます。
ICやCPUの元となるシリコンウェハの製作過程で、基板上にシリコンなどの薄膜を生成させるCVDにも熱流体解析が使われています。SCRYU/Tetraでは、キャリアガスのほか、複数のガスを同時に解く事ができる混合ガス解析機能があります。
