CVD

ICやCPUの元となるシリコンウェハの製作過程で、基板上にシリコンなどの薄膜を生成させるCVDにも熱流体解析が使われています。SCRYU/Tetraでは、キャリアガスのほか、複数のガスを同時に解く事ができる混合ガス解析機能があります。